MINI GOUPYL


Установка предназначена для нанесения на подложки диэлектрических и полупроводниковых аморфных пленок в плазме низкочастотного разряда из газовой фазы.

Характеристики:

  • Частота источника электрической мощности: 55 кГц
  • Мощность источника: 900 Вт
  • Режим работы источника: непрерывный или пульсирующий.
  • Температура осаждения: от комнатной до 400 0С
  • Число газовых линий для подачи прекурсоров: 7.
  • Рабочее давление газовой смеси: от 50 Па до 1000 Па
  • Толщина подложек: до 1 мм
  • Размер подложек: до 125 мм.
  • Одновременное осаждение на: 6-12 подложек диаметром 100 мм.


MINI GOUPYL